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根据韩国媒体Korea Times报导，晶圆代工龙头台积电在独家承揽苹果iPhone 7的A10处理器代工订单之后，可以说是对三星电子(SAMSUNG)一次的重大胜利。但是，为了能在未来板回劣势，三星电子本月由一位执行副总领带队，亲赴全球半导体微影技术设备商荷兰ASML总公司，敲定将至少耗资数百万美元，采购ASML的最新EUV（极紫外光）微影设备，用于三星7纳米的制程上，并且先在2017年就抢先投入7纳米先进制程的试产上。
报导中指出，三星电子1位参与这次采购的高层主管表示，三星同意采购ASML的最新EUV设备NXE 3400 EU，将会运用在7纳米先进制程上。而这些EUV设备将安装在三星的逻辑芯片生产线中，预期最快在2017上半年完成，也是三星头一次把EUV设备投入芯片产线。
据了解，EUV微影技术是运用波长13.5纳米的紫外光，照射出更细致的纹理，可避免成本高昂的多重曝光程序。EUV微影技术花了很长时间才商业化，原因在于操作波长这么小的光线非常困难。因此，台积电一直无法确定是否要采用EUV，直到5纳米制程才最后确定。
三星表示，尽管延误了时程，但三星仍将会是第一家进入10纳米制程的制造商（即将为高通Qualcomm生产新的Snapdragon处理器芯片）。不过，台积电在稍后以会以更大的生产规模赶上来。而由于10纳米在技术上是个转换阶段，而且必须投下的庞大成本。在未来的产品要运用更新技术来生产的情况下，三星打算藉10纳米制程的练兵，未来企图在7纳米制程上拿回苹果的订单。
